眾所周知，手機芯片的工藝制程每年都會有迭代，技術(shù)是向前發(fā)展的，自然也是越來越好。與其講芯片工藝發(fā)展史，我們不如搞清楚工藝制程對于芯片的意義。影響手機使用體驗的主要是性能與功耗，試問，誰不想要自己的手機在性能發(fā)揮激進的同時，耗電量卻更少呢？

芯片既是手機運算處理的大腦，又是主要的耗電大戶，而能影響芯片性能與功耗的關(guān)鍵就是工藝制程。制程舊的芯片，其耗電量甚至可以占到手機總耗電量的一半以上。

手機制程越先進（數(shù)字越?。?，芯片中元器件的間距就越緊密，單位面積內(nèi)的晶體管的數(shù)量越多，導電傳輸?shù)膿p耗就越小，進而決定了芯片的性能更高，耗電更小。

就晶體管密度而言，芯片制程從7nm變?yōu)?nm，一排晶體管的密度就會變?yōu)樵瓉淼?.4倍，縱橫排列的晶體管陣列密度則變?yōu)?.4倍的平方，量變決定質(zhì)變，工藝制程的升級，意味著芯片性能會有根本性的改變。

舉個例子，相較三星7nm工藝制程，三星5nm制程在晶體管數(shù)量密度上增加超過80%，性能更強、功耗更低。此外，Exynos 1080采用了當前業(yè)界公認的最佳制造工藝——EUV（極紫外光刻）。

目前，制造芯片的光刻機分為紫外光源（UV）、深紫外光源(DUV)和極紫外光源（EUV）。更短的波長意味著更先進的技術(shù)，極紫外光源（EUV）可以提供波長更短的光源，是當前最受業(yè)界所青睞的，臺積電、三星等芯片制造商都在加注這方面的技術(shù)研發(fā)。

極紫外光刻技術(shù)（EUV）是目前量產(chǎn)商用手機芯片中最先機的

三星Exynos 1080所采用的5nm EUV工藝與8nm LPP相比，可以使芯片的整體性能提升14%，功耗降低30%；與7nm DUV（深紫外光刻）相比，性能提升7%，功耗降低18%。

手機芯片里，不止集成了CPU和GPU，它還包括了IPS、NPU、DSP、基帶等相關(guān)的元器件，如何將它們“安排妥當”，制造工藝最為關(guān)鍵。

5nm工藝制程使得手機芯片在提升性能的同時，還降低了功耗，這就是它的意義。